化學機械CMP研磨冷卻水降溫設備
產品介紹
1.半導體芯片制造領域，硅晶片表面處理工藝，在曝光的過程中，表面平整才能有效避免光的散射來實現圖像轉移，采用化學機械研磨法，能夠實現標準的工藝要求，在半導體芯片的硅晶片制作工藝進入到毫米級后需采用化學機械研磨法，使硅晶片表面的平整程度達到制作的工藝要求。
2. 硅晶片與研磨墊相對運動過程會產生摩擦，從而會使研磨墊的溫度上升。溫度會升到80℃。研磨墊的溫度范圍30℃～75℃，研磨墊的溫度低于30℃或高于75℃時，會使研磨液與硅晶片表面的化學反應特性變差，影響硅晶片表面的平整度，需配置一臺化學機械CMP研磨冷卻水降溫設備來控制水溫。
3. 化學機械CMP研磨冷卻水降溫設備提供低溫冷水對CMP研磨機中拋光帶的冷卻裝置降溫，解決了CMP研磨機使用過程中拋光帶溫度比較高的問題，冷卻裝置包括一個冷水箱，水泵，冷水箱與拋光帶拋光工作面的接觸.能有效降低工作過程中拋光帶的溫度。
設備的應用
硅晶片雙面化學機械CMP研磨拋光自帶的冷卻裝置的降溫是利用化學機械CMP研磨冷卻水降溫設備提供的冷源，調節系統和顯示控制系統,通過顯示面板即可實時監測工作溫度，冷卻水沿冷卻通道對下磨盤進行冷卻,有效地控制了硅晶片的加工溫度,提高了硅晶片CMP研磨拋光的表面質量,降低了硅晶片碎片率。
產品優勢
化學機械CMP研磨冷卻水降溫設備作為化學機械CMP研磨過程中研磨拋光的溫度控制系統，通過控制拋光的溫度使得硅晶片在拋光程中的溫度得到控制，良品率等保持在理想狀態，延長研磨拋光的使用時間，有效提高硅晶片的平整性和穩定性.
產品特點
標準型：智能控制水溫5～30℃±1，
非標定制型：智能控制水溫 -50～85℃±0.3；控制水流1～1000L±0.03L；控制壓力0.1～10±0.04Mpa
智能控制系統：PCL、觸摸屏，，數據采集，RS485接口，選配 CAN通信總線，以太網接口遠程控制，可連接上位機及手機APP控制。
保護功能：電源相序保護裝置、漏電保護裝置、壓縮機過載保護裝置、電圈過熱保護裝置、高低壓保護裝
置、缺水保護裝置、冷凍水流保護裝置、防凍保護裝置。
售后服務
為創造品牌，樹立企業形象，我們本著“一切追求質量，用戶滿意為宗旨”的精神，以“優惠的價格、周到的服務、可靠的產品質量”的原則向您作出以下鄭重承諾：
1、買方使用部門可以到我司進行免費設備操作培訓；
2、使用三個月后，我司客服部會對設備的使用狀況回訪；
3、我司所有設備，免費保修一年，質保期內，所需零配件的及維修均我司承擔；但設備非正常損壞均不屬保修范圍，買方應支付所產生的更換零配件、路費、食宿費用。
4、根據消費者要求，免費上門調試及有關使用等方面的技術指導
5、免費保修期外，當設備損壞時買方需支付所更換配件費用（按材料采購成本計價）；
6、確保設備零配件的供應，可簽終身維修服務協議，負責產品終身維修服務。
7、接到客戶電話及“設備故障通知書”后，通過遠程維護，如維護不了廣東范圍內24小時之內到達現場處理，廣東省以外72小時之內到達現場處理。
組技術參數
|
型號
Model
|
制冷量
Refrigerati
ng capacity
|
壓縮機
Compressor
|
蒸發器
Evaporator
|
冷凝器
Condenser
|
水泵
water pump
|
外型尺寸
Shape dimension
|
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kcal/h
|
kw
|
kw
|
hp
|
L
|
inch
|
m3/h
|
m3/h
|
kw
|
mpa
|
cm
|
|
JRW-10
|
24940
|
29
|
7.5
|
10
|
160
|
2"
|
6
|
10000
|
1.5
|
0.18
|
148×70×168
|
|
JRW-12
|
29928
|
34.8
|
4.5×2
|
12
|
170
|
2"
|
7.2
|
12000
|
1.5
|
0.18
|
150×70×173
|
|
JRW-15
|
37410
|
43.5
|
5.5×2
|
15
|
200
|
2"
|
9
|
15000
|
1.5
|
0.18
|
160×75×190
|
|
JRW-20
|
49880
|
58
|
7.5×2
|
20
|
300
|
2"
|
12
|
|
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| 聯系人： |
李大紅 |
|
| 聯系電話： |
086-0755-29084657 |
|
| 手機： |
15889567386 |
|
| 傳真： |
086-0755-29084632 |
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| 聯系地址： |
深圳市寶安區松崗街道塘下涌工業大道16號 |
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| 電子郵箱： |
nine-wells@hotmail.com |
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| 注意： |
聯系我時請說明是在“環球破碎機網”上看到的信息 |
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